Avila, Mauricio Costa Silveira de, e Alex Lorenzet. “ACOMPANHAMENTO POR 12 MESES DA RESISTÊNCIA ADESIVA VARIANDO OS TEMPOS DE FOTOPOLIMERIZAÇÃO COM LUZ HALÓGENA”. Seminário de Iniciação Científica e Seminário Integrado de Ensino, Pesquisa e Extensão (SIEPE) (setembro 4, 2014): 168. Acessado dezembro 22, 2024. https://periodicos.unoesc.edu.br/siepe/article/view/5413.